![联系方式](/static/home/images/icon/icon1.png)
铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铜材料经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性,已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域。铜靶材适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等。
全球铜靶材市场主要有日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯、爱发科,前五大企业占比将近80%,市场被美国、日本垄断。国内市场日矿金属铜靶材占比达30%,爱发科、霍尼韦尔次之,中国企业有江丰电子、阿石创、有研新材、隆华科技等,但销量较少,销售额约在1-3亿元。高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的,研发生产设备专用性强,涉及测试平台精密度高,铜靶材技术壁垒较高,高纯度的铜靶材仍需从国外进口,未来随着国内研发实力的增强及国家政策的支持,铜靶材将逐步走向国产替代化。
2022年全球铜靶材市场企业排名 |
|
企业名称 |
排名 |
日矿金属 |
1 |
霍尼韦尔 |
2 |
东曹 |
3 |
普莱克斯 |
4 |
爱发科 |
5 |
研精毕智市场调研网隶属于北京研精毕智信息咨询有限公司(英文简称:XYZResearch),是国内领先的行业研究及企业研究服务供应商。通过有效分析复杂数据和各类渠道信息,助力客户深入了解所关注的细分市场,包括市场空间、竞争格局、市场进入策略、用户结构等,包括深度研究目标企业组织架构,市场策略、销售结构、战略规划等,帮助企业做出更有价值的商业决策。