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光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，包含上万个零部件，集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。作为整个芯片工业制造中必不可少的精密设备——光刻机，其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平，因此光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

一、光刻机行业概述

1、行业定义

光刻机又名掩膜对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印刷到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键的设备，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。

2、产业链结构

光刻机的生产极为复杂，上游主要配套材料及设备，如光罩、光刻胶、光刻气体、配套设备、涂胶设备、显影设备，还包括激光器、能量控制器、光束矫正器等光刻机组件；中游为不同光刻机的生产；下游为应用领域，主要包括芯片制造、芯片对接、功率器件制造、LED、MEMS制造等。

3、分类

光刻机主要分为有掩膜光刻机和无掩膜光刻机。无掩膜光刻机又分为电子束/激光/离子束直写光刻机，有掩膜光刻机分为接近/接触/投影光刻机。

二、全球及中国光刻机行业发展现状分析

1、市场销量

受益于下游晶圆的巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展，带动相关芯片的需求，光刻机销售额与销量稳步提升。根据北京研精毕智信息咨询有限公司的数据显示，2015-2020年，全球光刻机销售量总体增长，2020年达413台，同比增长16.7%。2021年全球光刻机销量约450台，预计在2023年全球光刻机销售量有望突破500台。

2、销量结构

光刻机随着光刻技术的更迭，从最初的g-line，i-line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。目前全球光刻机销量仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主，合计达264台，占比约65%;其次分别为ArF immersio、Arf dry、EUV，占比分别为19%、8%及8%。

3、营业收入

截止至2021年，全球TOP3企业阿斯麦、尼康、佳能的总营收达到1070亿元左右，同比2020年增长9%左右，其中阿斯麦占比超过八成。主要增长动力来源于EUV出货带动，随着下游集成电路需求持续复杂和精细，工艺制程愈加接近极限，高端光刻机需求将持续扩张，带动整体光刻机营收上升。数据显示，2021年阿斯麦营收来源中中国超百亿元，与国内晶圆产能扩张符合。

4、竞争格局

从TOP3企业的竞争格局看，当前荷兰ASML公司占比达62%，出货量约260台，远高于尼康和佳能，尼康和佳能市场销量占全球总销售量的7%和30%。从销售额看，ASML仍然占据市场龙头地位，市场份额高达91%，佳能和尼康占比为6%和3%。

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