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随着电子产品的广泛普及和需求量的不断增加，半导体行业实现了快速发展，CMP抛光液作为在其生产制造过程中的必要材料之一，在一定程度上推动了半导体产业的发展进程，并且也为自身带来了发展机遇。本文由市场调研机构对全球CMP抛光液行业发展现状作出全面解读，同时也对未来行业发展前景进行了预测。

CMP抛光液行业发展综述

1、行业定义

CMP抛光液指的是一种应用于半导体制造过程中的化学机械抛光的液体溶液，其中包含一些化学物质和磨料，通过化学和机械作用来改善物体表面的平坦度、光滑度和精度。

2、产业链全景

在CMP抛光液行业产业链中，上游环节为原料/设备采购，包含研磨颗粒、PH调节剂、分散剂、氧化剂和表面活性剂等原材料；中游环节为CMP抛光液的生产与制造，主要按照抛光对象和酸碱性两方面的标准进行划分；下游环节为集成电路、分立器件、光电子器件和传感器等应用领域。

全球及中国CMP抛光液行业发展现状分析

1、专利技术

由市场调研资料进行披露，在CMP抛光液行业专利技术层面，当前中国大陆为专利技术申请数量最多的地区，到2023年，中国、美国、日本和韩国四国的CMP抛光液专利技术数量均达到了200项以上，地区中的相关企业数量相对较多，除此之外中国台湾、德国和法国等国家和地区的专利技术数量排在后面，与位于前列的地区之间存在着较大的差距。

2、市场规模

近些年来全球半导体产业不断增长，带动了集成电路市场的快速发展，相关生产与制造技术水平也在迅速提高，CMP抛光液作为晶圆制造环节中的重要流程之一，对精度和性能等方面均具有着决定性的作用，价值占比相对较高。

根据调研报告指出，自从2016年以来，全球CMP抛光液市场规模整体呈现波动上升的趋势，2016-2019年，市场规模从11亿美元增加至12亿美元左右，期间年平均增长率约为3%；2020年，CMP抛光液市场规模进一步上升到13.4亿美元左右，同比增长11.7%；2021年底，全球CMP抛光液市场规模超过了14亿美元，达到14.3亿美元左右，同比增长6.7%。

3、市场格局

从CMP抛光液代表企业方面来看，目前全球范围内的多数企业集中分布在美国、日本和韩国等地区，全球市场中的多数份额主要被外资企业所垄断，大型企业的业务布局相对完善。

2022年，全球CMP抛光液行业内排名前五的企业共同占有接近70%的市场份额，具体来看，Cabot占比达到了33%左右，位于首位；其次为日立和富士美两家企业排在第二和第三的位置，市场占比分别约为13%和10%；Versum和安集科技位列其后，同期所占据的市场比重分别达到9%和2%左右。