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概述
调研大纲

晶圆清洗系统的消费量与下游产业和全球经济有关,由于未来几年全球经济将始终存在一些不确定性,晶圆清洗系统行业的增长率可能会保持如此之快。但可以肯定的是,晶圆清洗系统的市场仍然很有前景。

1、全球晶圆清洗系统市场销售量

2021年全球晶圆清洗系统市场销售量为960台

图:2021-2026年全球晶圆清洗系统销售量(单位)及增长率

2021-2026年全球晶圆清洗系统销售量(单位)及增长率

2、全球晶圆清洗系统市场价格趋势

图:2021-2026年世界价格(千美元/单位)趋势

2021-2026年世界价格(千美元/单位)趋势

3、技术和机会

微电子元件的低生产成本意味着手机和其他电子设备是生活中不可分割的一部分。此类器件的关键是半导体晶片,必须清洁无污染;然而,对这种清洁的需求和该行业的快速扩张可能会对环境产生毁灭性的影响。

半导体元件中污染物的去除

工业需要一种有效和高效的工艺,在不损坏晶片的情况下从半导体元件中去除污染物和杂质——碱、金属、重金属、有机污染物、掺杂剂。如果不去除它们,晶片的性能和功能可能会受到影响。

因此,半导体晶片的清洁是电子产品生产中的一个重要阶段,预计到2024年将增长到68亿美元。使用基于湿化学的清洁技术和蚀刻清洁技术清洁半导体晶片有各种方法,步骤可能包括预扩散清洁、颗粒去除、金属离子去除、薄膜去除和蚀刻后清洁。

半导体晶片清洗对环境的影响

一种流行的基于湿化学的技术是旋转晶片蚀刻清洁,它使用化学工艺去除污染物。一次处理一个晶片变得越来越普遍,需要用氢氟酸和臭氧水处理每个晶片。氢氟酸具有高度腐蚀性,可以溶解许多材料,包括玻璃。它也是一种急性毒药,会立即对肺部和角膜造成不可逆的损伤,并会干扰身体的钙代谢,导致全身毒性、心脏骤停和死亡。臭氧水具有消毒剂的作用,是一种用途广泛的强效消毒剂。

使用此类化学物质可能非常危险——如果手动清洁晶圆,则需要两个人始终在场;不过,值得庆幸的是,这些过程是自动化的,由机器执行。

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